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首頁 > 期刊 > 光電工程 > 變傾角移相斜入射動態干涉儀 【正文】

變傾角移相斜入射動態干涉儀

作者:劉致遠; 陳磊; 朱文華; 丁煜; 馬云; 鄭東暉 南京理工大學電子工程與光電技術學院; 江蘇南京210094; 南京理工大學先進發射協同創新中心; 江蘇南京210094

摘要:為了快速獲取不平整度達數微米量級的光學表面面形分布,提出一種基于變傾角移相的斜入射動態干涉儀方案?;谶~克耳遜干涉儀主光路系統,采用2×2點光源陣列,通過精確控制各點光源在干涉腔的入射傾角,引入等間隔移相,結合透鏡陣列實現空間分光,在單個CCD上同時采集四幅移相干涉圖,實現動態測量。在68°斜入射角下測量了口徑35 mm硅片的平整度,均方根(RMS)值為1.631μm,峰谷(PV)值為9.082μm。實驗結果表明,將變傾角同步移相技術引入斜入射干涉系統,可以克服環境震動的干擾,在保證高精度的前提下拓寬了可見光干涉儀的測量范圍。

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光電工程雜志

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