《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志投稿后多久回復(fù)取決于雜志審稿速度：預(yù)計(jì) 較慢,6-12周 。投稿前請(qǐng)仔細(xì)閱讀相關(guān)投稿須知，有任何疑問(wèn)可以聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志于2007年創(chuàng)刊，刊號(hào)為ISSN：1932-5150，EISSN：1932-5134，是一本專注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領(lǐng)域的SCIE期刊，出版周期為：Quarterly，目前未開(kāi)放OA（未開(kāi)放訪問(wèn)）。主要發(fā)表由專家撰寫(xiě)的簡(jiǎn)短且易于理解的文章，內(nèi)容精煉且具有較高的學(xué)術(shù)價(jià)值，特別適合那些希望快速了解某一特定研究方向最新進(jìn)展的讀者。

《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發(fā)表同行評(píng)審的論文，內(nèi)容涉及光刻、制造、封裝和集成技術(shù)的科學(xué)、開(kāi)發(fā)和實(shí)踐，這些技術(shù)對(duì)于滿足電子、微機(jī)電系統(tǒng)、微光機(jī)電系統(tǒng)和光子學(xué)行業(yè)的需求必不可少。

在收錄情況方面，《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中，該雜志分區(qū)信息為大類學(xué)科物理與天體物理2區(qū)，CiteScore為3.4，在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY領(lǐng)域的排名較為靠前，其 SJR為 0.393，SNIP為1.723，h-index指數(shù)為37，這些數(shù)據(jù)都反映出期刊在學(xué)術(shù)界具有較高的影響力和學(xué)術(shù)價(jià)值。

投稿SCI期刊后收到回復(fù)的時(shí)間因多種因素而異，具體時(shí)間如下：

初審階段：編輯初審?fù)ǔＴ?-4周內(nèi)完成，主要檢查論文的格式、規(guī)范性以及是否符合期刊的基本要求。

同行評(píng)審階段：若論文通過(guò)初審，編輯會(huì)將其發(fā)送給多位同行評(píng)審人進(jìn)行詳細(xì)評(píng)估。這一階段是整個(gè)審稿過(guò)程中最耗時(shí)的部分，通常需要1-3個(gè)月。

終審階段：編輯在得到審稿人的反饋后，會(huì)根據(jù)審稿人的意見(jiàn)給出接收、小修、大修、拒稿等結(jié)果。這一階段的時(shí)間相對(duì)較短，通常在收到審稿意見(jiàn)后幾天到一周內(nèi)完成。

投稿者在選擇期刊時(shí)，應(yīng)考慮到審稿周期，并做好長(zhǎng)期等待的準(zhǔn)備，同時(shí)也要注意不同期刊的具體要求和效率可能大相徑庭。

聲明：以上內(nèi)容來(lái)源于互聯(lián)網(wǎng)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確之處，請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行修改。