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發表《Micro And Nano Engineering》雜志多久能被SCI數據庫收錄?

來源:優發表網整理 2024-09-18 11:25:24 76人看過

通常情況下,《Micro And Nano Engineering》雜志發表的文章被SCIE數據庫收錄的時間沒有固定標準,若想了解詳細、準確的具體情況,建議直接與雜志社取得聯系或者向在線客服進行咨詢。

多久能被SCI數據庫一般可以歸納出以下情況:

論文發表后到在線時間:SCI論文發表后,一般需要大約3個月的時間才能在期刊官網上線,這是論文初次對外公開的時間點。

在線后到數據庫檢索時間:論文在線后,通常還需要1-3個月的時間才能在Web of Science(WOS)數據庫中檢索到,這個過程被稱為論文的索引或收錄。

整體時間周期:從投稿到論文被SCI數據庫收錄,整個周期大概需要一年左右的時間。具體來說,投稿后可能需要5-6個月收到接收通知,然后經過2-3個月論文會在官網上線,再之后2-3個月論文會被WOS數據庫收錄。

然而,這個時間周期并不是絕對的,它受到多種因素的影響,如:期刊類型、論文質量、數據庫更新等。

《Micro And Nano Engineering》雜志已被SCIE國際知名數據庫收錄,在JCR分區中位于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學科Q2區MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY學科Q3區NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY學科Q3區OPTICS學科Q2區PHYSICS, APPLIED學科Q2區,在CiteScore評價中位于Engineering學科的Q2區Engineering學科的Q3區Engineering學科的Q3區Engineering學科的Q3區Engineering學科的Q3區具有較高的學術影響力,在該領域受到廣泛認可。

WOS分區(數據版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q2 151 / 352

57.2%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 229 / 438

47.8%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 89 / 140

36.8%

學科:OPTICS ESCI Q2 43 / 119

64.3%

學科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q2 74 / 179

58.9%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q3 184 / 354

48.16%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 232 / 438

47.15%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 77 / 140

45.36%

學科:OPTICS ESCI Q3 66 / 120

45.42%

學科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q3 95 / 179

47.21%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數據庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區時會按照某一個學科領域劃分,根據這一學科所有按照影響因子數值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質量最高。

CiteScore分區(數據版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
3.3 0.489 0.942
學科 分區 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 394 / 797

50%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 117 / 224

47%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 229 / 434

47%

大類:Engineering 小類:Surfaces, Coatings and Films Q3 73 / 132

45%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 160 / 284

43%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發表文獻的平均受引用次數。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經過加權后的期刊受引用次數。引用次數的加權值由施引期刊的學科領域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領域中預期的受引用情況進行衡量。

作為一本專注于Engineering - Electrical and Electronic Engineering領域的學術期刊,它致力于發表高質量的研究論文和為相關領域的研究人員提供重要的學術資源。

《心理分析自我與背景》雜志(請注意,直接名為《心理分析自我與背景》的雜志可能并不存在,這里我基于心理分析類雜志的普遍特點進行概述)是一本專注于心理分析領域的學術期刊,致力于探討個體心理自我認知及其與社會、文化背景之間的相互作用。該雜志可能由心理學界的權威機構或研究團體主辦,匯聚了國內外心理分析領域的專家學者,發表高質量的研究論文、個案分析、綜述文章及前沿動態。

其內容涵蓋榮格分析心理學、弗洛伊德精神分析、深度心理學等多個流派的理論與實踐,同時注重將心理分析理論與中國文化相結合,探索心理分析在不同文化背景下的應用與發展。雜志通過提供學術交流平臺,促進心理分析領域的研究成果傳播與應用,對推動心理分析學科的發展具有重要意義。

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