用于ICF驅動器的色分離光柵的制作
作者：胡新寧 劉剛 田揚超 中國科學院電工研究所 中國科學技術大學國家同步輻射實驗室 中國科學技術大學國家同步輻射實驗室 北京 中國科學院研究生院
摘要：介紹了色分離光柵的設計原理,并對其制作工藝進行了研究。用套刻法以能量為450 eV、束流密度為80 mA/cm2、30°入射角的離子束對100 mm×100 mm石英基片進行刻蝕,制作出了周期為300μm色分離光柵。實驗測得零級次上3ω(351 nm)光的歸一化衍射效率達到了91.9%。結果表明,這套工藝方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蝕圖形分辨率高、側壁較陡等優點,為進一步制作高衍射效率的色分離光柵提供了參考。
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微細加工技術雜志
微細加工技術雜志， 雙月刊，本刊重視學術導向，堅持科學性、學術性、先進性、創新性，刊載內容涉及的欄目：綜述、電子束技術、離子束技術、光子束技術、薄膜技術、微機械加工技術、納米技術等。于1983年經新聞總署批準的正規刊物。
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