摘要:以CMOS存儲單元為研究對象,介紹了仿真在CMOS抗輻射加固集成電路單粒子效應機理及電路抗單粒子加固設計方面的研究進展,討論了特征尺寸的縮小對單粒子輻射效應的影響,提出了利用交叉隔離和錯誤猝熄的方法改進傳統存儲單元的加固性能,并通過試驗驗證了該方法的有效性。
注:因版權方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。
現代應用物理雜志, 季刊,本刊重視學術導向,堅持科學性、學術性、先進性、創新性,刊載內容涉及的欄目:物理量的定義和測量的假設選擇、理論數學、理論與實驗等。于2010年經新聞總署批準的正規刊物。