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Micro And Nano Engineering

  • ISSN:2590-0072
  • ESSN:
  • 國際標準簡稱:Micro and Nano Engineering
  • 出版地區:Netherlands
  • 出版周期:
  • 研究方向:Engineering - Electrical and Electronic Engineering
  • 出版年份:
  • 語言:English
  • 是否OA:開放
  • 學科領域

  • 中科院分區

  • JCR分區

    Q2
  • IF影響因子

    2.8
  • 是否預警

期刊簡介

Journal Title:Micro And Nano Engineering

The journal "Psychoanalytic Self and Background" (please note that there may not be a journal directly named "Psychoanalytic Self and Background", and here I provide an overview based on the common characteristics of psychoanalytic journals) is an academic journal focused on the field of psychoanalysis, dedicated to exploring individual psychological self-awareness and its interaction with social and cultural backgrounds. This magazine may be sponsored by authoritative institutions or research groups in the field of psychology, bringing together experts and scholars in the field of psychoanalysis at home and abroad to publish high-quality research papers, case studies, review articles, and cutting-edge trends.

Its content covers the theories and practices of multiple schools of thought, including Jungian analytical psychology, Freudian psychoanalysis, and deep psychology. It also emphasizes the integration of psychoanalytic theory with Chinese culture, exploring the application and development of psychoanalysis in different cultural contexts. The magazine provides an academic exchange platform to promote the dissemination and application of research results in the field of psychoanalysis, which is of great significance in advancing the development of the discipline of psychoanalysis.

中文簡介

《心理分析自我與背景》雜志(請注意,直接名為《心理分析自我與背景》的雜志可能并不存在,這里我基于心理分析類雜志的普遍特點進行概述)是一本專注于心理分析領域的學術期刊,致力于探討個體心理自我認知及其與社會、文化背景之間的相互作用。該雜志可能由心理學界的權威機構或研究團體主辦,匯聚了國內外心理分析領域的專家學者,發表高質量的研究論文、個案分析、綜述文章及前沿動態。

其內容涵蓋榮格分析心理學、弗洛伊德精神分析、深度心理學等多個流派的理論與實踐,同時注重將心理分析理論與中國文化相結合,探索心理分析在不同文化背景下的應用與發展。雜志通過提供學術交流平臺,促進心理分析領域的研究成果傳播與應用,對推動心理分析學科的發展具有重要意義。

期刊點評

Micro And Nano Engineering由Elsevier出版商出版,收稿方向涵蓋Engineering - Electrical and Electronic Engineering全領域,平均審稿速度 14 Weeks ,影響因子指數2.8,該期刊近期沒有被列入國際期刊預警名單,廣大學者值得一試。

WOS分區(數據版本:2023-2024年最新版)

按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q2 151 / 352

57.2%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 229 / 438

47.8%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 89 / 140

36.8%

學科:OPTICS ESCI Q2 43 / 119

64.3%

學科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q2 74 / 179

58.9%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q3 184 / 354

48.16%

學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 232 / 438

47.15%

學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 77 / 140

45.36%

學科:OPTICS ESCI Q3 66 / 120

45.42%

學科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q3 95 / 179

47.21%

名詞解釋:
WOS即Web of Science,是全球獲取學術信息的重要數據庫,Web of Science包括自然科學、社會科學、藝術與人文領域的信息,來自全世界近9,000種最負盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學術會議多學科內容。給期刊分區時會按照某一個學科領域劃分,根據這一學科所有按照影響因子數值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會在高分區中,最后的劃分結果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質量最高。

CiteScore分區(數據版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
3.3 0.489 0.942
學科 分區 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 394 / 797

50%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 117 / 224

47%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 229 / 434

47%

大類:Engineering 小類:Surfaces, Coatings and Films Q3 73 / 132

45%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 160 / 284

43%

名詞解釋:
CiteScore:衡量期刊所發表文獻的平均受引用次數。
SJR:SCImago 期刊等級衡量經過加權后的期刊受引用次數。引用次數的加權值由施引期刊的學科領域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來源出版物的標準化影響將實際受引用情況對照期刊所屬學科領域中預期的受引用情況進行衡量。

其他數據

是否OA開放訪問: h-index: 年文章數:
開放 -- 60
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數據來源于搜索引擎): 開源占比(OA被引用占比):
100.00% 2.8
研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國際期刊預警名單(試行)》名單:
98.33% SCIE

歷年IF值(影響因子):

歷年引文指標和發文量:

歷年自引數據:

更多問題

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